晶瑞新材料 甘先生 18620162680微信同號
我公司系列二氧化硅拋光粉產(chǎn)品均是以高純硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學(xué)器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點:具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石玉器等的拋光加工。
技術(shù)指標(biāo):
型號 |
外觀 |
粒徑 |
含量 |
應(yīng)用 |
VK-SP50W |
白色液體 |
50nm/100nm |
30% |
精密拋光 |
VK-SP50F |
白色粉末 |
50nm |
99.8% |
精密拋光 |
VK-SP100F |
白色粉末 |
100nm |
99.8% |
精密拋光 |
我公司生產(chǎn)的納米二氧化硅拋光粉具有粒徑小、分散性好,粘度低,拋光亮度高,光澤細(xì)膩,可以解決材料表面粗糙度、波紋度和表面缺陷等問題。 可以做光學(xué)玻璃拋光,玻璃水鉆拋光,寶石拋光,金屬拋光,石材拋光等精密拋光。
用量
推薦用量為8~20%,調(diào)成漿料再進行拋光。使用者應(yīng)根據(jù)不同體系經(jīng)過試驗決定最佳添加量
儲藏:常溫密閉儲藏。
包裝:10公斤/袋,20公斤/桶。